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엔픽스
고속 입자빔을 이용한 나노가공 상용화 기술개발 나노입자 생성, 상변화, 초음속 형상 최적화, 유동측정, 진공장비 설계, 세정실험, 분사장치 제작 등의 노하우를 통해 CO2 가스를 고체화하고 이를 분사하여 기존 기술한계인 10 나노급 미세오염물을 제거하는 세정기술을 개발하며 이를 통해 반도체/디스플레이/전자/바이오 등의 주요산업에 나노가공기술을 상용화. 반도체 소자의 미세화에 따른 세정기술의 근본적인 한계이자 주요현안인 미세 오염을 10나노급까지 제거하는 세정기술을 당사가 보유...
사업 개요
고속 입자빔을 이용한 나노가공 상용화 기술개발 나노입자 생성, 상변화, 초음속 형상 최적화, 유동측정, 진공장비 설계, 세정실험, 분사장치 제작 등의 노하우를 통해 CO2 가스를 고체화하고 이를 분사하여 기존 기술한계인 10 나노급 미세오염물을 제거하는 세정기술을 개발하며 이를 통해
사업 내용
- 사업내용
- 반도체/디스플레이/전자/바이오 등의 주요산업에 나노가공기술을 상용화. 반도체 소자의 미세화에 따른 세정기술의 근본적인 한계이자 주요현안인 미세 오염을 10나노급까지 제거하는 세정기술을 당사가 보유. 초소형의 고속 나노입 자 빔(nPBD) 장치를 통해 친환경, 고효율의 차세대 건식세정기술을 구현하여 핵 사 심장비 국산화 달성 업 개
비즈니스 모델
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제품 썸네일
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주요 성과
- 고용창출
- 기 (선정당시) 3명 10나노 오염입자제거 세계최초 성공
유사 기업
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